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Ansprechpartner

Prof. Dr. Stefan Sinzinger

Institutsdirektor

Telefon +49 3677 69-3402

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INHALTE

Labor für Hochtemperaturprozesse

LPCVD-System
  • Atmosphärische Oxidation von Siliziumwafern 100 mm (Tempress Systems)
  • Atmosphärische Oxidation von Siliziumwafern 150 mm (ATV)
  • 4-Rohr LPCVD-System für Si3N4, TEOS, poly-Si, dotiertes poly-Si (Tempress Systems)
  • MOCVD-System für Metalloxide und Gruppe-III-Nitride (Aixtron)
  • Weißlichtinterferenzmesssystem (Mister)


     Kontakt: Thomas Stauden
     Telefon: +49 3677 693409

     Kontakt: Jutta Uziel
     Telefon: +49 3677 693230