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Ansprechpartner

Prof. Dr. Stefan Sinzinger

Institutsdirektor

Telefon +49 3677 69-3402

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INHALTE

PVD/ RIE Labor

Ardenne LES 250
  • Einfache Verdampfungsanlage für Metalle (Edwards Auto 306)
  • Clustersysteme mit inversem Sputterätzer (ISE), Sputterkammer für Metalle und Elektronenstrahlverdampfer für 100 mm- und 150 mm-Substrate (Ardenne LES 250 und CS400)
  • Coolsputtersystem zur Präparation von REM-Proben (Emitec)
  • ECR-Trockenätzanlage für Siliziumkarbid (Balzers PLS 500)
  • ICP-Trockenätzanlage für GruppeIII-Nitride (STS-Multiplex-Chlorchemie)
  • Sputtersystem für metallische Schichten (Leybold LAB 500)
  • PECVD-System für SiO2 und Si3N4 (STS 310 PC)
  • ICP-PECVD System für SiO2, Si3N4 und aSi-Schichten (Oxford Plasmalab 100)
  • Plasmastripper zum Entfernen von Fotolacken (TEPLA 200)
  • Rasterelektronenmikroskop (S 4800II-Hitachi)
  • RIE-Trockenätzanlage für SiO2 und Si3N4 (STS 320 PC)
  • RIE-Trockenätzanlage für SiO2 und Si3N4 (Oxford Plasmalab 100)
  • RTP-System (Jipelec)
  • Sputtersystem für Wolframkarbid und Silicide (Ardenne LA 440)
  • Sputtersystem für AlN-Schichten (Nordiko)
  • Anodic Bonder EV501 (EVG)
  • ICP-Trockenätzanlage für Siliziumoxid und Gläser (SI500-Sentech)



     Kontakt: Ilona Marquardt
     Telefon: +49 3677 693407

     Kontakt: Manuela Breiter
     Telefon: +49 3677 693325

     Kontakt: David Venier
     Telefon: +49 3677 693410