Zielstellung zum Transfer- und Verbundprojekt NPMM-200
Aufbau eines Labormusters einer NPM-Maschine mit folgenden Spezifikationen
Arbeitsbereich: 200 x 200 x 25 mm³
Auflösung: 0,08 nm
Positionier-Reproduzierbarkeit: 1 nm
3D-Messunsicherheit: < 30 nm
Positioniergeschwindigkeit: vmax= 30 mm/s
Die besonderen Merkmale des NPMM-200 Labormusters
- Abbefehlerfreie Messungen im gesamten Messbereich
- Ständige Kompensation (Ausregelung) aller Führungsfehler; 6-D0F-Fehler Kompensation
- Nanoprobes und Nanotools arbeiten nur als Nullsysteme, was höchstmögliche Präzision für die z-Systeme garantiert
Anwendungsgebiete / Eigenschaften des NPMM-200 Labormusters
Aufgrund des großen Messvolumens und der Präzision des Labormusters der NPMM-200 ergeben sich für den SFB enorme Herausforderungen zur Entwicklung neuer Mess-, Antast-, Positionier-, Konstruktions- und Steuerungsstrategien.
Durch die Integration von taktilen 3D-Nanotastern in die NPMM-200 wird erstmals die nanometergenaue 3D-Messung auch von großen Präzisionsteilen möglich.
Der Einbau von zeilenförmig angeordneten Cantilevern oder Nanoprofilometern ermöglicht effektive Rauheits- und Gestaltabweichungsmessungen (Freiformflächen, shärische und ashärische Flächen, Referenzflächen, Ebenheitsnormale), z.B. benötigt für die Oberflächenmodifikation mittels Ionenstrahlen; für die Messung stark gekrümmter Synchrotronoptiken (R=25mm ± 0,2µm, L≥200mm, R=500µm, 10µm, Form: elliptisch, zylindrisch), für Masken- und Waferinspektion.
Herstellung von Präzisionsteilen und von Nanostrukturen durch den Einbau von Nanotools.
Kalibrierung großer Strukturhöhen- und Strukturbreitennormale.
Reduzierung der Messunsicherheiten in der Halbleiter- und Optikindustrie sowie in der Metrologie; in der Werkstofftechnik, in der Mikrobiologie sowie in der Mikro- und Nanotechnologie.