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INHALTE

Zielstellung zum Transfer- und Verbundprojekt NPMM-200

Aufbau eines Labormusters einer NPM-Maschine mit folgenden Spezifikationen

Arbeitsbereich:  200 x 200 x 25 mm³

Auflösung:  0,08 nm

Positionier-Reproduzierbarkeit:  1 nm

3D-Messunsicherheit:  < 30 nm

Positioniergeschwindigkeit:  vmax= 30 mm/s

Die besonderen Merkmale des NPMM-200 Labormusters

  • Abbefehlerfreie Messungen im gesamten Messbereich
  • Ständige Kompensation (Ausregelung) aller Führungsfehler; 6-D0F-Fehler Kompensation
  • Nanoprobes und Nanotools arbeiten nur als Nullsysteme, was höchstmögliche Präzision für die z-Systeme garantiert

Anwendungsgebiete / Eigenschaften des NPMM-200 Labormusters

Aufgrund des großen Messvolumens und der Präzision des Labormusters der NPMM-200 ergeben sich für den SFB enorme Herausforderungen zur Entwicklung neuer Mess-, Antast-, Positionier-, Konstruktions- und Steuerungsstrategien.

Durch die Integration von taktilen 3D-Nanotastern in die NPMM-200 wird erstmals die nanometergenaue 3D-Messung auch von großen Präzisionsteilen möglich. 

Der Einbau von zeilenförmig angeordneten Cantilevern oder Nanoprofilometern ermöglicht effektive Rauheits- und Gestaltabweichungsmessungen (Freiformflächen, shärische und ashärische Flächen, Referenzflächen, Ebenheitsnormale), z.B. benötigt für die Oberflächenmodifikation mittels Ionenstrahlen; für die Messung stark gekrümmter Synchrotronoptiken (R=25mm ± 0,2µm, L≥200mm, R=500µm, 10µm, Form: elliptisch, zylindrisch), für Masken- und Waferinspektion. 

Herstellung von Präzisionsteilen und von Nanostrukturen durch den Einbau von Nanotools.

Kalibrierung großer Strukturhöhen- und Strukturbreitennormale. 

Reduzierung der Messunsicherheiten in der Halbleiter- und Optikindustrie sowie in der Metrologie; in der Werkstofftechnik, in der Mikrobiologie sowie in der Mikro- und Nanotechnologie.