Computer generated holography for lithography on curved surfaces. - In: EOS Topical Meeting on Diffractive Optics 2019, (2019), S. 80-81
Nano-structured diffraction gratings as polarizing beam splitters under vertical incidence. - In: EOS Topical Meeting on Diffractive Optics 2019, (2019), S. 20-21
Polarizing beam splitters have numerous applications in optical systems, e.g. for the measurement of freeform surfaces. We present a design and manufacturing process for a nanostructured diffraction grating with optimized diffraction efficiencies for TE- and TM-polarization, which acts as a beam splitter over a long range of incidence angles. First measurements confirm a strong difference in diffraction efficiencies.
Nanostrukturierte Beugungsgitter als angepasste integrierbare Polarisationsstrahlteiler. - In: MikroSystemTechnik Kongress 2019, (2019), S. 468-471
Spektral durchstimmbarer Mikrosensor für die Gasanalyse. - In: MikroSystemTechnik Kongress 2019, (2019), S. 460-463
Mesoskopische Flüstergaleriemodenresonatoren im sichtbaren Spektrum auf Basis von Silizium Mikrostrukturierung. - In: MikroSystemTechnik Kongress 2019, (2019), S. 178-181
Trockenchemisches Freistellen von Mikrostrukturen in der Glaskeramik Zerodur. - In: MikroSystemTechnik Kongress 2019, (2019), S. 154-157
Fasergekoppelter konfokaler Sensor zur exakten Abstandsregelung für maskenlose Lithografieanwendungen. - In: 20. GMA/ITG-Fachtagung Sensoren und Messsysteme 2019, (2019), S. 610-616
Maskenlose Fotolithografie findet auch abseits der Halbleitertechnik hohe und immer weiterwachsende Bedeutsamkeit [1, 2]. Als dauerhaftes und wesentliches Entwicklungsziel hat sich die Vergrößerung der Packungsdichte der Mikro- bzw. Nanostrukturen herausgestellt. Dazu ist es nötig die angewendeten Lithografieprozesse zu optimieren und die Strukturen mit sehr hoher Präzision und einer sehr guten Reproduzierbarkeit zu fertigen. Eine Form der maskenlosen Lithografie wird durch Direct-Laser-Writing (DLW) beschrieben [3]. Bei diesem Prozess ist die Strukturbreite von der Fokussierbarkeit und der axialen Ausrichtung des verwendeten Fabrikationslasers abhängig. Um die Präzision dieser Lithografieanwendung und der zu entwickelnden Strukturgeometrie zu erhöhen, wird eine Nanopositionier- und Nanomessmaschine (NPMM) zur relativen Ausrichtung der beschichteten Probe zum Laserstrahl verwendet [4]. Ein neuentwickelter chromatisch-konfokaler Sensor scannt dafür die Topographie der Probenoberfläche und regelt den Maschinenhub so nach, dass der Polymerisationsprozess stets in der Brennebene des Fabrikationslasers stattfindet.
https://doi.org/10.5162/sensoren2019/P1.14
Aktorisches Miniaturspektrometer für die Gassensorik. - In: 20. GMA/ITG-Fachtagung Sensoren und Messsysteme 2019, (2019), S. 125-129
https://doi.org/10.5162/sensoren2019/2.1.3
Methoden zur Charakterisierung optischer Gitter über einen großen Ortsfrequenzbereich. - In: DGaO-Proceedings, ISSN 1614-8436, Bd. 120 (2019), A36, insges. 2 S.
https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:0287-2019-A036-4
Untersuchung deformierter optischer Mikrokavitäten anhand des abgestrahlten Fernfelds. - In: DGaO-Proceedings, ISSN 1614-8436, Bd. 120 (2019), B17, insges. 2 S.
https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:0287-2019-B017-3