Mikro- und Halbleitertechnologie 1 - Interaktive Studienpläne der TU Ilmenau
Die Interaktiven Studienpläne sind ein Informationsangebot zu den Studiengängen der TU Ilmenau.
Die rechtsverbindlichen Studienpläne entnehmen Sie bitte den jeweiligen Studien- und Prüfungsordnungen (Anlage Studienplan).
Alle Angaben zu geplanten Lehrveranstaltungen finden Sie im elektronischen Vorlesungsverzeichnis.
Bitte beachten Sie, dass auf dieser Seite keine Aktualisierungen mehr vorgenommen werden. Alle Module und Studienpläne ab der PO-Version 2021 (Bachelor- und Master-Studiengänge) sind ab sofort im Campus-Portal erreichbar.
| Modulinformationen zu Mikro- und Halbleitertechnologie 1 im Studiengang Bachelor Elektrotechnik und Informationstechnik 2021 | |
|---|---|
| Modulnummer | 200544 |
| Prüfungsnummer | 2100886 |
| Fakultät | Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik |
| Fachgebietsnummer | 2142 (Nanotechnologie) |
| Modulverantwortliche(r) | Prof. Dr. Heiko Jacobs |
| Turnus | Sommersemester |
| Sprache | Deutsch |
| Leistungspunkte | 5 |
| Präsenzstudium (h) | 45 |
| Selbststudium (h) | 105 |
| Verpflichtung | Wahlmodul |
| Abschluss | schriftliche Prüfungsleistung, 120 Minuten |
| Details zum Abschluss | |
| Link zum Moodle-Kurs | |
| Lehrende | Vorlesung: Dr. Jörg Pezoldt |
| Anmeldemodalitäten für alternative PL oder SL | |
| max. Teilnehmerzahl | |
| Vorkenntnisse | Grundkenntnisse in Physik, Chemie und den Funktionsweisen von elektronischen Bauelementen und integrierten Schaltkreisen |
| Lernergebnisse und erworbene Kompetenzen | Die Studierenden können nach Abschluss der Lehrveranstaltung, bestehend aus Vorlesung und dazu gehörigen Übungen, die Grundlagen für die Einzelprozesse und den physikalisch materialwissenschaftlichen Hintergrund der Herstellung von Halbleiterbauelementen wiedergeben. Sie sind in der Lage, integrierte Schaltkreise, Sensor- und Mikrosysteme zu beschreiben. Nach dem Besuch der Vorlesungen sind die Studierenden in der Lage, die Prozessschritte in der Mikro- und Halbleitertechnologie zu bestimmen. Sie sind in der Lage, die chemischen und materialwissenschaftlichen Grundlagen und deren Anwendbarkeit zu analysieren und zu bewerten. Sie sind befähigt, evolutionäre Technikprozesse am Beispiel des Halbleitermarktes richtig einzuschätzen. |
| Inhalt | Die Vorlesung gibt eine Einführung in die physikalischen, chemischen und technischen Grundlagen der Einzelprozesse, die bei der Herstellung von Sensoren, Halbleiterbauelementen, integrierten Schaltkreisen, Sensor- und Mikrosystemen Verwendung finden. Die technologischen Verfahren und Abläufe, sowie die Anlagentechnik zur Fertigung von Halbleiterbauelementen und deren Integration in Systeme werden am Beispiel der Siliziumtechnologie und Galliumarsenidtechnologie vermittelt. 1. Einführung in die Halbleitertechnologie: Die Welt der kontrollierten Defekte 2. Einkristallzucht 3. Scheibenherstellung 4. Waferreinigung 5. Epitaxie 6. Dotieren: Legieren und Diffusion 7. Dotieren: Ionenimplantation, Transmutationslegierung 8. Thermische Oxidation 9. Methoden der Schichtabscheidung: Bedampfen 10. Methoden der Schichtabscheidung: CVD 11. Methoden der Schichtabscheidung: Plasma gestützte Prozesse 12. Ätzprozesse: Nasschemisches isotropes und anisotropes Ätzen 13. Ätzprozesse: Trockenchemisches isotropes und anisotropes Ätzen 14. Elemente der Prozeßintegration |
| Medienformen und technische Anforderungen bei Lehr- und Abschlussleistungen in elektronischer Form | Folien, Powerpointpresentationen, Tafel |
| Literatur | 1. J.D. Plummer, M.D. Deal, P.B. Griffin: Silicon Technology: Fundamentals, Practice and Modelling, Prentice Hall, 2000. 6. S. Fransislia, Introduction to Microfabrication, Wiley, 2004. 7. H. Xiao: Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology, SPIE Press, 2012. 8. S.K.
Ghandi: VLSI Fabrication Principles: Silicon and Gallium Arsenide, Wiley, 1994. 9. A.G. Baca, C.I.H. Ashby: Fabrication of GaAs Devices, IEE, 2005. 10. W. Prost, Technologie der III/V-Halbleiter, Springer, 1997. |
| Lehrevaluation | |