Beschichtung

Das ZMN verfügt über ein breites Spektrum an Verfahren Herstellung funktionaler Schichten für Mikro- und Nanosysteme.

Die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) steht in verschiedenen Prozessvarianten vom Magnetronsputtern über die Elektronenstrahlverdampfung bis zur Molekularstrahlepitaxie (MBE) für die Herstellung metallischer Schichten und von Metallverbindungen zur Verfügung.

Die chemische basierte Abscheidung mit der direkten Abscheidung aus der Gasphase (MOCVD, ICP-CVD) und der Atomlagenabscheidung (ALD) sowie der thermischen Behandlung zur Oxidation und Schichtumwandlung runden das Portfolio ab.