Ätzprozesse

In den  Reinräume  des ZMN steht eine breite Palette von Nass- und Trockenätzverfahren zur Verfügung. Die nasschemischen Verfahren decken eine große Bandbreite an Reinigungs- und Ätzprozessen in der Materialpalette des ZMN ab. Die Nasschemiestrecke des Zentrums ermöglicht sowohl vielfältige Reinigungsprozesse (RCA + NTA, Caro, Lösemittelreinigung, Tickopur/Stammopur, HF/BOE, …) als auch Substrat- und Schichtätzungen (Si und seine Verbindungen sowie alle gängigen Metalle).

Plasmabasierte Ätzprozesse mit fluor- und chlorhaltigen Reaktivgasen ergänzen das Spektrum der Strukturierungsmöglichkeiten von Nanostrukturen in Dünnschichten bis zu dreidimensionalen mikromechanischen, - optischen und -fluidischen Strukturen. Die Kombination von physikalischen und chemischen Teilprozessen ermöglicht eine präzise Kontrolle des Materialabtrags und der Strukturbildung.