Die Untersuchungen wohldefinierter Oberflächen erfolgen in zwei komplexen Ultrahochvakuumapparaturen, die vom Fachgebiet genutzt werden. Die wichtigsten experimentellen Methoden sind hierbei:
- Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy (UPS)
- X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)
- Auger Electron Spectroscopy (AES)
- Atomic Force Microscopy (AFM)
- Scanning Tunneling Microscopy (STM)
- Quadrupole Mass Spectroscoy (QMS)
- Low Energy Electron Diffraction (LEED)
- Reflection of High Energy Electron Diffraction (RHEED)
- Photoemission Electron Microscopy (PEEM)
- (Plasma Assisted) Molecular Beam Epitaxy ((PA)MBE)
Weiterhin werden vom Fachgebiet genutzt:
- Modulationsspektroskopie:
- Elektroreflexion (ER) mit Metallkontakten [T > 2K]
- Elektroreflexion (ER) mit Elektrolytkontakt
- Photoreflexion (PR) [T > 2K]
- Photolumineszenzspektroskopie (PL)
Anregung: HeCd-, Ar-Ionen-, Ti-Saphir-Laser [T > 2K]
- Photolumineszenzanregungsspektrospopie (PLE)
Anregung: Ti-Saphir-Laser bzw. Monochromator mit Lampe [T > 2K]
- Photolumineszenz-Mapping-Spektroskopie für 2"-Wafer
Anregung: HeNe- bzw. verschiedene Halbleiter-Laser [T > 10K]
- Spektralellipsometrie vom IR- bis UV-Bereich
- Reflektivität vom IR- bis UV-Bereich
- Photostrommessung [T > 2K]
- Ein-Wellenlängen-Ellipsometrie zur Schichtdickenbestimmung
- Mikroskopierplatz zur Bestimmung von µm-Abmessungen
- Prüfstand zur Charakterisierung solarthermischer Systeme
- Magnetotransport und -optik [B ~ 9,5 T]