Sub-project B

In der zweiten Doktorandengeneration werden die Forschungsarbeiten aus B1 und TP1 an Interferenzoptischen und SLM-basierten Belichtungsansätzen fortgeführt. Zur Erweiterung der Flexibilität und der Einsatzmöglichkeit zur Sub-Mikrometerstrukturierung in großen Arbeitsvolumina wird die Integration eines SLM basierten Belichtungsaufbaus in die Nanopositionier- und Nanomessmaschine (NPMM) erforscht. Ziel ist die großflächige Belichtung unter Ausnutzung der Sub-Nanometer genauen Justier- und Stitching-Genauigkeit der Anlage. Unter Nutzung der Erfahrungen aus TP1 und der Expertise am Fachgebiet Technische Optik müssen dazu innovative Konzepte zur mikrooptischen Systemintegration mit optimierten numerischen Algorithmen und optischen Systemdesigns erarbeitet werden.

Projektleiter: Prof. Sinzinger, Prof. Theska

Die Arbeiten im Fortsetzungsprojekt B2 verfolgen das Ziel, die Strukturierpräzision des Laserschreibens in der NPM-Maschine von 2PP-Prozessen bis in den Sub-10 nm-Bereich zu bringen und Stegbreiten deutlich kleiner als 10 nm bei 25 mm Linienlänge zu demonstrieren (theoretisch scheinen auch 1 nm Stegbreite machbar). Das bessere Verständnis und damit die gezielte Nutzung des „Erinnerungsvermögens für Belichtungen unter dem Schwellwert“ stellt einen hochbrisanten Untersuchungsgegenstand dar. Schließlich ist die Erhöhung der Schreibgeschwindigkeit (bei hoher Bahnpräzision) und damit die Optimierung der Dynamik des Schreibprozesses ein wichtiges Ziel des Projektes.

Projektleiter: Prof. Manske, Prof. Reinhardt