Pezoldt, Jörg; Stottko, B.; Kupris, Gerald; Ecke, Gernot
Sputtering effects in hexagonal silicon carbide. - In: Materials science and engineering. Solid state materials for advanced technology / American Society for Metals. - New York, NY [u.a.] : Elsevier, 1988- , ISSN: 1873-4944 , ZDB-ID: 1492109-1, ISSN 1873-4944, Bd. 29 (1995), 1/3, S. 94-98
http://dx.doi.org/10.1016/0921-5107(94)04005-O
Sputtering effects in hexagonal silicon carbide. - In: Materials science and engineering. Solid state materials for advanced technology / American Society for Metals. - New York, NY [u.a.] : Elsevier, 1988- , ISSN: 1873-4944 , ZDB-ID: 1492109-1, ISSN 1873-4944, Bd. 29 (1995), 1/3, S. 94-98
http://dx.doi.org/10.1016/0921-5107(94)04005-O
Pezoldt, Jörg;
Are polytype transitions possible during boron diffusion?. - In: Materials science and engineering. Solid state materials for advanced technology / American Society for Metals. - New York, NY [u.a.] : Elsevier, 1988- , ISSN: 1873-4944 , ZDB-ID: 1492109-1, ISSN 1873-4944, Bd. 29 (1995), 1/3, S. 99-104
http://dx.doi.org/10.1016/0921-5107(94)04006-P
Are polytype transitions possible during boron diffusion?. - In: Materials science and engineering. Solid state materials for advanced technology / American Society for Metals. - New York, NY [u.a.] : Elsevier, 1988- , ISSN: 1873-4944 , ZDB-ID: 1492109-1, ISSN 1873-4944, Bd. 29 (1995), 1/3, S. 99-104
http://dx.doi.org/10.1016/0921-5107(94)04006-P
Cimalla, Volker; Karagodina, K. V.; Pezoldt, Jörg; Eichhorn, Gerd
Growth of thin [beta]-SiC layers by carbonization of Si surfaces by rapid thermal processing. - In: Materials science and engineering. Solid state materials for advanced technology / American Society for Metals. - New York, NY [u.a.] : Elsevier, 1988- , ISSN: 1873-4944 , ZDB-ID: 1492109-1, ISSN 1873-4944, Bd. 29 (1995), 1/3, S. 170-175
http://dx.doi.org/10.1016/0921-5107(94)04047-8
Growth of thin [beta]-SiC layers by carbonization of Si surfaces by rapid thermal processing. - In: Materials science and engineering. Solid state materials for advanced technology / American Society for Metals. - New York, NY [u.a.] : Elsevier, 1988- , ISSN: 1873-4944 , ZDB-ID: 1492109-1, ISSN 1873-4944, Bd. 29 (1995), 1/3, S. 170-175
http://dx.doi.org/10.1016/0921-5107(94)04047-8
Zöllner, Jens-Peter; Cimalla, Volker; Pezoldt, Jörg
RTP - temperature monitoring by means of oxidation. - In: Journal of non-crystalline solids, ISSN 0022-3093, Bd. 187 (1995), S. 23-28
http://dx.doi.org/10.1016/0022-3093(95)00111-5
RTP - temperature monitoring by means of oxidation. - In: Journal of non-crystalline solids, ISSN 0022-3093, Bd. 187 (1995), S. 23-28
http://dx.doi.org/10.1016/0022-3093(95)00111-5
Kupris, Gerald; Rößler, Hans; Ecke, Gernot; Hofmann, Siegfried
Interpretation of sputter depth profiles by mixing simulations. - In: Fresenius' journal of analytical chemistry, ISSN 1432-1130, Bd. 353 (1995), 3/4, S. 307-310
http://dx.doi.org/10.1007/BF00322057
Interpretation of sputter depth profiles by mixing simulations. - In: Fresenius' journal of analytical chemistry, ISSN 1432-1130, Bd. 353 (1995), 3/4, S. 307-310
http://dx.doi.org/10.1007/BF00322057
Wöhner, Thomas; Ecke, Gernot; Rößler, Hans; Hofmann, Siegfried
Simulation of sputter-induced roughness for depth profiling of thin film structures. - In: Fresenius' journal of analytical chemistry, ISSN 1432-1130, Bd. 353 (1995), 3/4, S. 447-449
http://dx.doi.org/10.1007/BF00322086
Simulation of sputter-induced roughness for depth profiling of thin film structures. - In: Fresenius' journal of analytical chemistry, ISSN 1432-1130, Bd. 353 (1995), 3/4, S. 447-449
http://dx.doi.org/10.1007/BF00322086
Stauden, Thomas; Eichhorn, Gerd; Cimalla, Volker; Pezoldt, Jörg; Ecke, Gernot; Nennewitz, Olaf
ECR-Abscheidung von AlN auf Si. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 756-759
ECR-Abscheidung von AlN auf Si. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 756-759
Zöllner, Jens-Peter; Eichhorn, Gerd; Stauden, Thomas; Cimalla, Volker; Schliefke, Willy
Zu Problemen der Temperaturmessung beim RTP. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 750-755
Zu Problemen der Temperaturmessung beim RTP. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 750-755
Cimalla, Volker; Pezoldt, Jörg; Eichhorn, Gerd
Einfluß von Pufferschichten auf die Struktur und Morphologie von SiC-Epitaxieschichten auf Si. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 742-749
Einfluß von Pufferschichten auf die Struktur und Morphologie von SiC-Epitaxieschichten auf Si. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 742-749
Fabricius, Alexander; Nennewitz, Olaf; Spieß, Lothar; Cimalla, Volker; Pezoldt, Jörg
Herstellung von WSi 2 und TiSi 2 durch Co-Sputtern und RTA. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 724-729
Herstellung von WSi 2 und TiSi 2 durch Co-Sputtern und RTA. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 724-729