High throughput AFM inspection system with parallel active cantilevers. - In: Photomask Technology 2019, (2019), S. 111481E-1-111481E-10
Atomic Force Microscopes are capable to provide non-destructive high resolution, CD-metrology and precise defect analysis. However, a conventional AFM has not enough throughput for today's large scale semiconductor manufacturing. The primary point remains the increase of the scanning area in case of large wafers, masks, displays or dies. Cantilever array-based AFMs are intended to increase the imaging throughput by parallelizing the work of many AFM probes that may be practiced by parallel AFM systems that are capable to operate autonomously. An active cantilever scheme makes it possible to sense electronically the deflection and individually to control the actuation of every cantilever in the array. Each cantilever in the array represents a self-sustaining AFM-hardware system for metrology and imaging. In that, the multiple parallel probes are forming many AFMs capable to work independently.
https://doi.org/10.1117/12.2537009
Evaluation of deep autoencoders for prediction of adjustment points in the mass production of sensors. - In: Machine learning for cyber physical systems, (2019), S. 9-16
Vergleichende Betrachtung verschiedener Methoden zur Bestimmung der Inhomogenität von Thermoelementen. - In: 20. GMA/ITG-Fachtagung Sensoren und Messsysteme 2019, (2019), S. 621-626
https://doi.org/10.5162/sensoren2019/P1.16
Fasergekoppelter konfokaler Sensor zur exakten Abstandsregelung für maskenlose Lithografieanwendungen. - In: 20. GMA/ITG-Fachtagung Sensoren und Messsysteme 2019, (2019), S. 610-616
Maskenlose Fotolithografie findet auch abseits der Halbleitertechnik hohe und immer weiterwachsende Bedeutsamkeit [1, 2]. Als dauerhaftes und wesentliches Entwicklungsziel hat sich die Vergrößerung der Packungsdichte der Mikro- bzw. Nanostrukturen herausgestellt. Dazu ist es nötig die angewendeten Lithografieprozesse zu optimieren und die Strukturen mit sehr hoher Präzision und einer sehr guten Reproduzierbarkeit zu fertigen. Eine Form der maskenlosen Lithografie wird durch Direct-Laser-Writing (DLW) beschrieben [3]. Bei diesem Prozess ist die Strukturbreite von der Fokussierbarkeit und der axialen Ausrichtung des verwendeten Fabrikationslasers abhängig. Um die Präzision dieser Lithografieanwendung und der zu entwickelnden Strukturgeometrie zu erhöhen, wird eine Nanopositionier- und Nanomessmaschine (NPMM) zur relativen Ausrichtung der beschichteten Probe zum Laserstrahl verwendet [4]. Ein neuentwickelter chromatisch-konfokaler Sensor scannt dafür die Topographie der Probenoberfläche und regelt den Maschinenhub so nach, dass der Polymerisationsprozess stets in der Brennebene des Fabrikationslasers stattfindet.
https://doi.org/10.5162/sensoren2019/P1.14
Model based correction of motion deviations in the Planck-Balance. - In: 20. GMA/ITG-Fachtagung Sensoren und Messsysteme 2019, (2019), S. 554-560
https://doi.org/10.5162/sensoren2019/6.4.5
Investigations on the sine fitting algorithm in the Planck-Balance. - In: 20. GMA/ITG-Fachtagung Sensoren und Messsysteme 2019, (2019), S. 547-553
https://doi.org/10.5162/sensoren2019/6.4.4
Absolut messender Winkelsensor auf Basis optischer Interferometrie. - In: 20. GMA/ITG-Fachtagung Sensoren und Messsysteme 2019, (2019), S. 147-152
Zur absoluten, hochauflösenden Winkelmessung reflektierender Oberflächen werden nach dem derzeitigen Stand der Technik Autokollimationsfernrohre eingesetzt. Die mit diesem Prinzip erreichbaren Eigenschaften in Bezug auf die Sensorgröße, Auflösung und Messunsicherheit sind für Anwendungen mit hohen Anforderungen nicht mehr ausreichend. Aus diesem Grund wurde ein neuartiges Verfahren zur absoluten Winkelmessung entwickelt. Es basiert auf einem Kösters-Prisma und optischer Interferometrie. Das Interferenzsignal wird über eine CMOS-Matrix erfasst und durch einen Algorithmus ausgewertet. Als Signal für die Winkellage dient die Neigung und Streifenbreite der Interferenzstreifen. Bei ersten messtechnischen Untersuchungen konnte mit diesem Verfahren bereits eine Auflösung von unter 5 nrad und ein Messbereich von mehr als 5 mrad erreicht werden. Im Rahmen dieses Beitrages wird das neue Sensorkonzept vorgestellt. Das beinhaltet den optischen Sensoraufbau, die Strategie zur Signalauswertung und erste messtechnische Untersuchungen.
https://doi.org/10.5162/sensoren2019/2.2.3
Processing large raster and vector data in apache spark. - In: Datenbanksysteme für Business, Technologie und Web, (2019), S. 551-554
https://doi.org/10.18420/btw2019-43
Applications of a fiber coupled chromatic confocal sensor in nanopositioning and nanomeasuring machines :
Anwendungen eines fasergekoppelten chromatisch konfokalen Sensors in Nanopositionier- und Nanomessmaschinen. - In: Technisches Messen, ISSN 2196-7113, Bd. 86 (2019), S. S17-S21
https://doi.org/10.1515/teme-2019-0041
Influences on the measurement with pipe clamp thermometers :
Einflussfaktoren auf die Messung mit Rohranlegethermometern. - In: Technisches Messen, ISSN 2196-7113, Bd. 86 (2019), S. S67-S71
https://doi.org/10.1515/teme-2019-0033