Die Arbeiten im Fortsetzungsprojekt B2 verfolgen das Ziel, die Strukturierpräzision des Laserschreibens in der NPM-Maschine von 2PP-Prozessen bis in den Sub-10 nm-Bereich zu bringen und Stegbreiten deutlich kleiner als 10 nm bei 25 mm Linienlänge zu demonstrieren (theoretisch scheinen auch 1 nm Stegbreite machbar). Das bessere Verständnis und damit die gezielte Nutzung des „Erinnerungsvermögens für Belichtungen unter dem Schwellwert“ stellt einen hochbrisanten Untersuchungsgegenstand dar. Schließlich ist die Erhöhung der Schreibgeschwindigkeit (bei hoher Bahnpräzision) und damit die Optimierung der Dynamik des Schreibprozesses ein wichtiges Ziel des Projektes.
Projektleiter: Prof. Manske, Prof. Reinhardt
