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Hummel, Christian; Schwierz, Frank; Hanisch, Antonia; Pezoldt, Jörg
Ambient and temperature dependent electric properties of backgate graphene transistors. - In: Physica status solidi. Basic solid state physics. - Weinheim : Wiley-VCH, [1971]- , ISSN: 1521-3951 , ZDB-ID: 1481096-7, ISSN 1521-3951, Bd. 247 (2010), 4, S. 903-906

http://dx.doi.org/10.1002/pssb.200982958
Pezoldt, Jörg; Stauden, Thomas; Niebelschütz, Florentina; Alsioufy, Mohamad Adnan; Nader, Richard; Masri, Pierre M.
Tuning residual stress in 3C-SiC(100) on Si(100). - In: Materials science forum, ISSN 1662-9752, Bd. 645/648 (2010), S. 159-162

http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.645-648.159
Hofer, Manuel; Stauden, Thomas; Rangelow, Ivo W.; Pezoldt, Jörg
Nanostructuring techniques for 3C-SiC(100) NEMS structures. - In: Materials science forum, ISSN 1662-9752, Bd. 645/648 (2010), S. 841-844

http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.645-648.841
Niebelschütz, Florentina; Stauden, Thomas; Tonisch, Katja; Pezoldt, Jörg
Temperature facilitated ECR-etching for isotropic SiC structuring. - In: Materials science forum, ISSN 1662-9752, Bd. 645/648 (2010), S. 849-852

http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.645-648.849
Tonisch, Katja; Jatal, Wael; Granzner, Ralf; Kittler, Mario; Baumann, Uwe; Schwierz, Frank; Pezoldt, Jörg
2H-AlGaN/GaN HEMTs on 3C-SiC(111)/Si(111) substrates. - In: Materials science forum, ISSN 1662-9752, Bd. 645/648 (2010), S. 1219-1222

http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.645-648.1219
Niebelschütz, Florentina; Zhao, Wei Hong; Brückner, Klemens; Tonisch, Katja; Linß, Matthias; Hein, Matthias A.; Pezoldt, Jörg
Property modification of 3C-SiC MEMS on Ge-modified Si(100) substrates. - In: Materials science forum, ISSN 1662-9752, Bd. 645/648 (2010), S. 861-864

http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.645-648.861
Tonisch, Katja; Niebelschütz, Florentina; Brückner, Klemens; Buchheim, Carsten; Goldhahn, Rüdiger; Cimalla, Volker; Ambacher, Oliver; Hein, Matthias
Piezoelektrisch angeregte MEMS aus epitaktischen AlGaN/GaN-Heterostrukturen. - In: Thüringer Werkstofftag 2010, (2010), S. 85-90
Parallel als Druckausg. erschienen

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Göckeritz, Robert; Koch, Roland; Himmerlich, Marcel; Endlich, Michael; Hummel, Christian; Alsioufy, Mohamad Adnan; Krischok, Stefan; Schäfer, Jürgen A.; Schwierz, Frank; Pezoldt, Jörg
Graphenprozessierung für Transistoren: materialanalytische Fragestellungen. - In: Thüringer Werkstofftag 2010, (2010), S. 91-98

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Stauden, Thomas; Tonisch, Katja; Niebelschütz, Florentina; Masri, Pierre; Pezoldt, Jörg
Grenzflächenmodifikation und Eigenschaften in Heterostrukturen mit großer Gitterfehlpassung. - In: Thüringer Werkstofftag 2010, (2010), S. 99-104

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Tonisch, Katja;
AlGaN/GaN-Schichtsysteme für piezoelektrisch angeregte Resonatoren. - Ilmenau : Univ.-Verl. Ilmenau, 2010. - Online-Ressource (PDF-Datei: 192 S., 15,02 MB) : Ilmenau, Techn. Univ., Diss., 2009
Enth. außerdem: Thesen

Auf Grund der gestiegenen Anforderungen für mikroelektromechanische Systeme (MEMS) hinsichtlich Stabilität, Miniaturisier- und Integrierbarkeit, steigt das Interesse an neuen Materialsystemen wie den Halbleitern großer Bandlücke. Die vorliegende Arbeit gliedert sich in zwei Schwerpunkte, die für die Herstellung GaN-basierter MEMS bewältigt werden mussten: zum Einen wurde das Wachstum auf selektiv zu GaN ätzbaren Substraten untersucht. In der vorliegenden Arbeit werden drei Substrate vorgestellt, welche sowohl das epitaktische Wachstum von GaN als auch das Freistellen der Struktur erlauben. Dazu gehört die Verwendung von 4H-SiC als Substrat, welches sich kürzlich als isotrop ätzbar erwiesen hat. Als zweites wird das epitaktische GaN-Wachstum auf nanokristallinen, gesputterten AlN-Opferschichten gezeigt, welches die MEMS-Herstellung auf Saphir ermöglicht. Im letzten Fall erfolgt das Wachstum auf Siliziumsubstraten mit Hilfe einer 3C-SiC-Zwischenschicht. Die piezoelektrischen Eigenschaften von (GaN/)AlGaN/GaN-Heterostrukturen standen im zweiten Schwerpunkt im Fokus. Dabei dient die AlGaN-Schicht und in einigen Fällen eine zusätzliche GaN-Deckschicht als piezoelektrisch aktive Schicht. Das hochleitfähige 2D Elektronengas (2DEG) an der unteren AlGaN/GaN-Grenzfläche stellt dabei die zur Anregung benötige Rückelektrode zur Verfügung. Mit Hilfe der Elektroreflexion konnte die elektrische Feldverteilung in Abhängigkeit von der angelegten elektrischen Spannung bestimmt werden. In Kombination mit der Piezokraftmikroskopie, bei welcher die spannungsabhängige Auslenkung der Schichten untersucht wurde, konnte das piezoelektrische Modul d33 für Al0.31Ga0.69N zuverlässig mit 5 pm/V bestimmt werden. Die Prozessierung der ersten GaN-basierten MEMS wird schließlich auf allen drei zuvor eingeführten Substraten vorgestellt, das Schwingungsverhalten für die piezoelektrische Anregung von Transversalschwingungen mit Hilfe von Vibrometermessungen sowie das rein elektrische Auslesen von Longitudinalschwingungen (ebenfalls für piezoelektrische Anregung) demonstriert



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