Konferenzbeiträge

Dallorto, Stefano; Lorenzon, Monica; Szornel, Julia; Schwartzberg, Adam; Goodyear, Andy; Cooke, Mike; Hofmann, Martin; Rangelow, Ivo W.; Cabrini, Stefano
Balancing ion parameters and fluorocarbon chemical reactants for SiO2 pattern transfer control using fluorocarbon-based atomic layer etching. - In: Journal of vacuum science & technology, ISSN 2166-2754, Bd. 37 (2019), 5, S. 051805-1-051805-8
Im Titel ist "2" tiefgestellt

https://doi.org/10.1116/1.5120414

Lachmann, Martin; Stark, Tilman; Golz, Martin; Manske, Eberhard
Evaluation of deep autoencoders for prediction of adjustment points in the mass production of sensors. - In: Machine learning for cyber physical systems, (2019), S. 9-16

Kirchner, Johannes; Mastylo, Rostyslav; Gerhardt, Uwe; Sasiuk, Taras; Mohr-Weidenfeller, Laura; Hofmann, Martin; Kühnel, Michael; Sinzinger, Stefan; Manske, Eberhard
Fasergekoppelter konfokaler Sensor zur exakten Abstandsregelung für maskenlose Lithografieanwendungen. - In: 20. GMA/ITG-Fachtagung Sensoren und Messsysteme 2019, (2019), S. 610-616

Maskenlose Fotolithografie findet auch abseits der Halbleitertechnik hohe und immer weiterwachsende Bedeutsamkeit [1, 2]. Als dauerhaftes und wesentliches Entwicklungsziel hat sich die Vergrößerung der Packungsdichte der Mikro- bzw. Nanostrukturen herausgestellt. Dazu ist es nötig die angewendeten Lithografieprozesse zu optimieren und die Strukturen mit sehr hoher Präzision und einer sehr guten Reproduzierbarkeit zu fertigen. Eine Form der maskenlosen Lithografie wird durch Direct-Laser-Writing (DLW) beschrieben [3]. Bei diesem Prozess ist die Strukturbreite von der Fokussierbarkeit und der axialen Ausrichtung des verwendeten Fabrikationslasers abhängig. Um die Präzision dieser Lithografieanwendung und der zu entwickelnden Strukturgeometrie zu erhöhen, wird eine Nanopositionier- und Nanomessmaschine (NPMM) zur relativen Ausrichtung der beschichteten Probe zum Laserstrahl verwendet [4]. Ein neuentwickelter chromatisch-konfokaler Sensor scannt dafür die Topographie der Probenoberfläche und regelt den Maschinenhub so nach, dass der Polymerisationsprozess stets in der Brennebene des Fabrikationslasers stattfindet.

https://doi.org/10.5162/sensoren2019/P1.14

Lin, Shan; Rothleitner, Christian; Rogge, Norbert
Investigations on the sine fitting algorithm in the Planck-Balance. - In: 20. GMA/ITG-Fachtagung Sensoren und Messsysteme 2019, (2019), S. 547-553

https://doi.org/10.5162/sensoren2019/6.4.4

Oertel, Erik; Ullmann, Vinzenz; Manske, Eberhard
Absolut messender Winkelsensor auf Basis optischer Interferometrie. - In: 20. GMA/ITG-Fachtagung Sensoren und Messsysteme 2019, (2019), S. 147-152

Zur absoluten, hochauflösenden Winkelmessung reflektierender Oberflächen werden nach dem derzeitigen Stand der Technik Autokollimationsfernrohre eingesetzt. Die mit diesem Prinzip erreichbaren Eigenschaften in Bezug auf die Sensorgröße, Auflösung und Messunsicherheit sind für Anwendungen mit hohen Anforderungen nicht mehr ausreichend. Aus diesem Grund wurde ein neuartiges Verfahren zur absoluten Winkelmessung entwickelt. Es basiert auf einem Kösters-Prisma und optischer Interferometrie. Das Interferenzsignal wird über eine CMOS-Matrix erfasst und durch einen Algorithmus ausgewertet. Als Signal für die Winkellage dient die Neigung und Streifenbreite der Interferenzstreifen. Bei ersten messtechnischen Untersuchungen konnte mit diesem Verfahren bereits eine Auflösung von unter 5 nrad und ein Messbereich von mehr als 5 mrad erreicht werden. Im Rahmen dieses Beitrages wird das neue Sensorkonzept vorgestellt. Das beinhaltet den optischen Sensoraufbau, die Strategie zur Signalauswertung und erste messtechnische Untersuchungen.

https://doi.org/10.5162/sensoren2019/2.2.3