Knedlik, Christian;
Komplexe Schichtmeß- und Analysentechnik. - In: Physikalische Technologien, (1990), S. 109-110
Komplexe Schichtmeß- und Analysentechnik. - In: Physikalische Technologien, (1990), S. 109-110
Scherge, Matthias; Knedlik, Christian; Breternitz, Volkmar
Simulation von Materialtransportprozessen in Leitbahn und Kontakt. - In: Internationales wissenschaftliches Kolloquium / Technische Hochschule Ilmenau, ISSN 0374-3365, Bd. 35 (1990), 5, S. 69-71
Simulation von Materialtransportprozessen in Leitbahn und Kontakt. - In: Internationales wissenschaftliches Kolloquium / Technische Hochschule Ilmenau, ISSN 0374-3365, Bd. 35 (1990), 5, S. 69-71
Spieß, Lothar;
Führt die Höchstintegration der Mikroelektronik zu einer Analytikkrise?. - In: Internationales wissenschaftliches Kolloquium / Technische Hochschule Ilmenau, ISSN 0374-3365, Bd. 35 (1990), 5, S. 133-136
Führt die Höchstintegration der Mikroelektronik zu einer Analytikkrise?. - In: Internationales wissenschaftliches Kolloquium / Technische Hochschule Ilmenau, ISSN 0374-3365, Bd. 35 (1990), 5, S. 133-136
Spieß, Lothar; Tvarožek, Vladimir; Novotný, I.; Gr&hacek;no, J.; Liday, Jozef; Va&hacek;nek, Oldrich
Titansilicidschichten auf Poly-Si und SiO2. - In: Internationales wissenschaftliches Kolloquium / Technische Hochschule Ilmenau, ISSN 0374-3365, Bd. 35 (1990), 5, S. 47-50
Titansilicidschichten auf Poly-Si und SiO2. - In: Internationales wissenschaftliches Kolloquium / Technische Hochschule Ilmenau, ISSN 0374-3365, Bd. 35 (1990), 5, S. 47-50
Knedlik, Christian;
Tippmann, Herbert; Hoebbel, Helmut;
Grundlagenuntersuchungen an WSi2-Schichten. - In: Internationales wissenschaftliches Kolloquium / Technische Hochschule Ilmenau, ISSN 0374-3365, Bd. 35 (1990), 5, S. 39-42
Grundlagenuntersuchungen an WSi2-Schichten. - In: Internationales wissenschaftliches Kolloquium / Technische Hochschule Ilmenau, ISSN 0374-3365, Bd. 35 (1990), 5, S. 39-42
Arnold, Heinrich; Fuchs, Gerhard; Kaufmann, Thorsten
Modellierungsgrundlagen für Wachstum und Dotierung von A(III)B(V)-Schichten aus der Gasphase (MO-VPE). - In: Internationales wissenschaftliches Kolloquium / Technische Hochschule Ilmenau, ISSN 0374-3365, Bd. 35 (1990), 4, S. 150-153
Modellierungsgrundlagen für Wachstum und Dotierung von A(III)B(V)-Schichten aus der Gasphase (MO-VPE). - In: Internationales wissenschaftliches Kolloquium / Technische Hochschule Ilmenau, ISSN 0374-3365, Bd. 35 (1990), 4, S. 150-153
Kaufmann, Thorsten; Webert, Matthias; Fuchs, Gerhard; Arnold, Heinrich; Hartung, Günter; Gothe, Karl-Heinz
Kupfer in MOCVD-ZnO-Schichten - defektchemische Interpretation von Einbau und physikalischem Verhalten. - In: Internationales wissenschaftliches Kolloquium / Technische Hochschule Ilmenau, ISSN 0374-3365, Bd. 35 (1990), 4, S. 129-132
Kupfer in MOCVD-ZnO-Schichten - defektchemische Interpretation von Einbau und physikalischem Verhalten. - In: Internationales wissenschaftliches Kolloquium / Technische Hochschule Ilmenau, ISSN 0374-3365, Bd. 35 (1990), 4, S. 129-132
Spieß, Lothar;
Rechnerunterstützte komplexe Festkörperanalytik für Mikroelektronikwerkstoffe, insbesondere von Siliciden zur Metallisierung von höchstintegrierten Schaltkreisen. - Ilmenau. - 1 Band (verschiedene Seitenzählungen)
Technische Hochschule Ilmenau, Habilitationsschrift 1990
Enthält Thesen
Rechnerunterstützte komplexe Festkörperanalytik für Mikroelektronikwerkstoffe, insbesondere von Siliciden zur Metallisierung von höchstintegrierten Schaltkreisen. - Ilmenau. - 1 Band (verschiedene Seitenzählungen)
Technische Hochschule Ilmenau, Habilitationsschrift 1990
Enthält Thesen
Hagel, Hans-Joachim;
Das Temperaturverhalten der Kontaktsysteme Metallisierung-Mono-Silizium und Metallisierung-Poly-Silizium unipolarer Festkörperschaltkreise, 1990. - 109, [5] Bl. Ilmenau : Techn. Hochsch., Diss., 1990
Enth. außerdem: Thesen
Das Temperaturverhalten der Kontaktsysteme Metallisierung-Mono-Silizium und Metallisierung-Poly-Silizium unipolarer Festkörperschaltkreise, 1990. - 109, [5] Bl. Ilmenau : Techn. Hochsch., Diss., 1990
Enth. außerdem: Thesen
Scherge, Matthias; Knedlik, Christian; Belan, Jozef; Harman, Rudolf
Elektronische Rauschanalyse als Qualitätstest für Leitbahnen in der VLSI-Technik. - In: Wissenschaftliche Zeitschrift / Technische Hochschule Ilmenau, ISSN 0043-6917, Bd. 35 (1989), 1, S. 73-83
Elektronische Rauschanalyse als Qualitätstest für Leitbahnen in der VLSI-Technik. - In: Wissenschaftliche Zeitschrift / Technische Hochschule Ilmenau, ISSN 0043-6917, Bd. 35 (1989), 1, S. 73-83